8月31日消息，尼康公司通过官网发布了重要的公告称，将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机，该产品将用来制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有非常出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产。
尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥及其重要的作用的光刻系统的需求。
随着电动汽车、高速通信和各种 IT 设备慢慢的变普遍，对支持它们的半导体的需求呈指数级增长，设备制造商需要专门的基板和曝光系统来制造这些芯片。尼康此前经常通过翻新步进机来满足光刻系统要求。
然而，翻新步进器的供应有限。因此，为了提供额外的灵活曝光设备解决方案，尼康推出了新型 5x i-line 步进式光刻机NSR-2205iL1 ，利用与客户密切合作的经验提供专门的解决方案。除了扩展各种选项以实现用户的多样化需求外，这款新开发的 i-line 步进式光刻机还将支持长期的设备生产。
NSR-2205iL1 将提供高生产率，同时利用多点自动对焦 (AF) 的高精度晶圆测量、先进的晶圆平台调平（通过倾斜放置晶圆的工作台来校正曝光期间曝光图像平面和基板表面之间的偏移的机构）和宽 DOF（扩展的焦深范围）来优化各种半导体制造工艺的良率水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸兼容性、高晶圆翘曲容限以及灵活的功能（包括但不限于支持 碳化硅和 氮化镓加工），它很适合各种应用。NSR-2205iL1 i-line 步进机将提供卓越的经济性，同时满足芯片制造商的多样化要求。
NSR-2205iL1 可以与现有晶圆厂运营兼容，在晶圆厂中拥有尼康 i-line 曝光系统的客户能继续利用现有的资产和运营，例如光掩模和晶圆曝光解决方案。此外，NSR-2205iL1 还可以补充或替换不再满足制造要求的现有步进式光刻机。
NSR-2205iL1 可以完全放心地经常使用，因为其设计采用通用商用组件，比以往更容易采购零件，并为未来提供更可持续的光刻解决方案。
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